研磨抛光

研磨抛光工序是样品制备的最关键步骤，研磨抛光分为以下几个步骤：磨平、细磨、磨光和最终抛光。

磨抛工序中的每个步骤都必须确保样品材料组织的完整性和真实性，同时也必须保证样品制备过程的可重复性和可再现性，最大限度减少人为因素干扰。因此，采用高科技、高品质和高可靠性的磨抛机是必不可少的。

普锐斯（PRESI）将针对每个客户度身定制从样品制备设备，制备耗材，产品售后服务，样品制备方法和样品材料测试观察的完整技术解决方案。

对于材料微观组织结构分析而言，研磨抛光工序是样品制备过程中最重要的步骤，正确的样品制备过程能完全去除切割样品时样品表面的变形损伤层，确保样品制备表面达到或接近完美，这样才能显示出样品真实的显微组织结构。

普锐斯（PRESI）为客户提供多种专业的研磨抛光设备，专用耐水砂纸、金刚石磨盘、金刚石抛光悬浮液、氧化物抛光悬浮液、等多种磨抛耗材，确保客户样品制备表面达到最佳效果。

普锐斯（PRESI）研制生产全新一代系列磨抛机。适用于几乎所有的固态材料的样品制备，无论是单个样品制备还是大批量样品制备。同时负责为客户提供最优的技术解决方案，普锐斯（PRESI）磨抛机系列包括：自动/手动磨抛机，便携式磨抛机和电解抛光机。

手动磨抛机：

Le Cube：经济型磨抛机，工作盘直径：Ø 200 mm；工作盘转速：双速可调；工作盘转向：双向可调。

Minitech: 单盘/双盘手动磨抛机，工作盘直径：Ø 200 至250 mm；工作盘转速：多速可调；控制方式：触摸屏控制面板易于操作，自动记忆保存制备方法和设定参数；工作盘转向：双向可调。

MECAPOL P320 和 P400：经济型磨抛机，工作盘尺寸：Ø 300 至 400 mm。

自动磨抛机：

Mecatech: 单盘/双盘自动磨抛机，工作盘直径：Ø 200 至300 mm；加载方式：单点力及中心力加载。制备参数可调，可自动记忆保存。控制方式：高分辨率的彩色液晶触摸屏控制，互锁设计，避免错误操作，操作简单，易于保养。

MECAPOL P320 PERE和 P400 PERE B: 自动磨抛机，工作盘直径：Ø 300 至400 mm的工作盘。

MECAPOL P400 PERE B，具有特殊设计的可摇摆动力头系统。

AUTOMATIC 300:全自动磨抛机，计算机控制全自动样品制备系统，工作盘直径：Ø300mm。

电解抛光机和便携式磨抛机

适用于实验室和现场样品制备，其特点：携带方便，操作简单，易于保养。