主要特点：

（ 1 ）程序控制、计算机操作、后部安装的炉系统。

（ 2 ）特有的内嵌式氘灯扣除技术，以消除物理、化学、光谱的干扰。

（ 3 ）多步温度控制程序。

（ 4 ）最新的稳定光束设计以提供较高的灯能量来满足低限检测，而不影响稳定性。

（ 5 ）可提供能自动设定 60 种金属之炉内条件的多种方法。

（ 6 ）快速切换火焰法与石墨炉系统。

（ 7 ） Windows 软件 Aanalyze 处理数据、给出报告。

（ 8 ） 3000K/ 秒的石墨炉升温速率，真正消除了化学干扰和记忆效应，极短的原子化时间，延长了石墨管寿命。

（ 9 ）钛燃烧头提供极高的灵敏度。

（ 10 ）自动控制燃气流量，选择最佳助燃比。

（ 11 ）全连锁监控燃烧头类型、燃烧头的安装、流量、气压、火焰屏蔽、火焰开 / 关感应器，点过失败自动关闭。

（ 12 ）全自动泵 / 氢化物发生器提供极高的灵敏度和精确度

技术规格：

1. 210VGP 光学系统

（ 1 ）波长范围： 190nm-900nm （ 1 ）波长范围： 190nm-900nm
（ 2 ）精确度± 0.1nm
（ 3 ）单色器： 250nm Ebert mount
600 线 /mm
狭缝宽为 0.2 、 0.7 、 2.0nm
（ 4 ）空心阴极灯：三倍的 HCL ；在 NORMAL 模式下 3-75Ma ，在 GIANT PULSE 模式下 3-750Ma ，频率可调从 33-200Hz
（ 5 ）背景校正：氘灯扣除—脉冲照明，热阴极，频率变换，校正从 190-350nm 自吸收法—可变高脉冲达 750mA ，脉冲时间从 10-200 毫秒，校正从 190-350nm

2. 220 型石墨炉
（ 1 ）温度范围：环境温度 -3000 ℃
（ 2 ）升温速度： 3000 ℃ / 秒
（ 3 ）程序设计：可设定 20 个程序
（ 4 ）内存方法：可存储 200 个方法的 DRAM 芯片
（ 5 ）循环控制：数据采集，内部气体流量，内部微量气体流量，交替气体流量
（ 6 ）安全自锁：石墨炉过热自动关闭，净化气 / 冷却水调节，过电流保护
净化气体： 1.5-2L/min 的氩气预纯化处理，切换气体：空气、氧气、氢气

3. 自动进样器

(1) 220AS 型石墨炉 AS

特性：随机提取循环圆盘加样，样品由进样针移取。

加量控制：精确可调微量控制， 100ul 样品， 2ml 清洗。

功能：启动自检，加样，清洗，恒温，清零，自动校准和 QC 。

位置盘：总共 44 个杯； 40 个样品和 4 个 1ul-50ul 标样 / 修改样；程序控制。

界面：与 210VGP 直接相连 RS-232C 接口。

(2) 240 型火焰法 AS

特性： X/Y 方向，样品由进样针移取。

加量控制：可变蠕动泵控制，或者直接气吸喷雾调节。

功能：启动自检，加样，清洗，恒温

样品吸入：程序测管吸入，从 0mm-130mm 。

位置盘：总共 150 个杯。

界面：与 210VGP 直接相连 RS-232C 接口