Dimension 9000-PM原子力显微镜 　　 Dimension 9000-PM是一种高级原子力显微镜，用于光掩膜应用中检测缺陷和加工特性。与光学缺陷检测系统联用，它可以提供区域可达65微米的AFM详细测量，并以高准确度和重复性去完全表征出现在相位移掩膜的三维缺陷。可选的缺陷检测软件可以导入缺陷图和自定义缺陷位置。使用专门的技术构造可以同时进行四块掩膜自动检测。在四个狭缝盒子里的掩膜都有独立的配置，四种配置可以同时测量而不会相互干涉。图像定位系统仅有3微米的绝对误差，确保用户直接到缺陷位置进行检测，所得结果与缺陷位置唯一关联。系统测试时采用尽量小作用力从而保证对样品没有伤害。Dimension 9000-PM在纳米范围深度测量时具有独一无二的可靠性和重复性，同时提供稳定的平台来表征和控制光掩膜的刻蚀工艺，可以满足所有光掩膜的深度测量的需要。